La Chine a commencé la production limitée de machines de lithographie DUV à immersion développées localement, dans le cadre de sa quête d’autonomie dans les semi-conducteurs. SMIC, le plus grand fabricant de puces chinois, teste depuis septembre 2025 un outil construit par Shanghai Yuliangsheng Technology, conçu pour des processus de classe 28 nm et potentiellement capable d’atteindre des nœuds de 7 nm via des techniques de multi-patterning avancées. La production de masse est ciblée dès 2027 chez SMIC, tandis que SMEE aurait déjà vendu environ dix unités de sa série SSA800. Des millions de puces logiques devraient être produites en 2026 grâce aux stocks existants de machines DUV importées, mais des législateurs américains ont proposé en avril 2026 des restrictions supplémentaires ciblant spécifiquement ces outils DUV à immersion.
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