Une entreprise soutenue par l’État chinois a commencé le 27 juillet la fabrication de machines de lithographie par immersion dans le profond ultraviolet, utilisées pour graver les motifs sur les tranches de silicium. La Chine prévoit de produire environ cinq machines en 2026 et vingt en 2027, soit moins de 4% de la production projetée d’ASML, qui devrait livrer 130 unités en 2026. SMIC, Hua Hong Semiconductor et ChangXin Memory Technologies figurent parmi les premiers récipiendaires. La part de la Chine dans le chiffre d’affaires d’ASML, actuellement de 33%, devrait chuter à environ 20% en 2026. La loi américaine MATCH, à laquelle les Pays-Bas se sont officiellement opposés en mai 2026, restreint davantage les ventes d’ASML aux clients chinois.
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