La Chine a construit un prototype de machine de lithographie par extrême ultraviolet (EUV) capable de générer une lumière de 13,5 nm, longueur d’onde nécessaire aux semiconducteurs les plus avancés. L’appareil, achevé début 2025 dans un laboratoire de Shenzhen, n’a pas encore produit de puce fonctionnelle à ce jour. La société néerlandaise ASML reste le seul fournisseur de machines EUV de production, commercialisées à environ 250 millions de dollars l’unité. La Chine vise une production de puces fonctionnelles d’ici 2028 grâce à un investissement d’environ 50 milliards de dollars du Big Fund III, ce qui pourrait modifier considérablement les chaînes d’approvisionnement mondiales en semiconducteurs.
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